奇妙的電漿與電漿的應用
電漿（稱做等離子體），它是在固態、液態和氣態以外的第四大物質狀態。在日常生活中使用的日光燈就是電漿的應用，隨著科技日益進步電漿也廣泛的應用在半導體製造中，像薄膜沉積製程中的濺鍍、化學氣相沉積；蝕刻製程的乾式蝕刻與佈植技術方面，都是用電漿原理來實現半導體的製程，而其中佈植領域的電漿浸潤式離子佈植 (簡稱:PIII) 就是半導體製程的換膚手術。如今人類與電漿接觸的機會越來越多，電漿研究對基本物理發展扮演極為重要的角色。
什麼是電漿
電漿（又稱做等離子體），它是在固態、液態和氣態以外的第四大物質狀態，其特性與前三者完全不相同。氣體在高溫或強電磁場下，會變為電漿。電漿為一種帶有等量的正電荷與負電荷的離子化氣體，它是由離子、電子與中性的原子或分子所組成的。電漿被科學家稱為物質的第四狀態，科學家估計宇宙中有近百分之九十九的物質都是以電漿狀態存在。
電漿的產生方式
藉由外加的能量來促使氣體內的電子獲得能量並且加速撞擊不帶電中性原子，由於不帶電中性原子受加速電子的撞擊後會產生離子與另一帶能量的加速電子，這些被釋出的電子，在經由電場加速與其他中性原子碰撞（如圖(一)所示）。如此反覆不斷，進而使氣體產生崩潰效應 (gas breakdown)，形成電漿狀態。
半導體的電漿與半導體換膚手術
隨著科技日益進步電漿也廣泛的應用在半導體製造中，像在薄膜沉積製程中的濺鍍 (Sputtering)、電漿化學氣相沉積 (PECVD) ;蝕刻製程中的乾式蝕刻 (Dry etching) ;在佈植技術方面，離子佈植機的離子源頭 (Source Haed) 以及電漿浸潤式離子佈植 (plasma immersion ion implantation)（如圖(三)所示），都是用電漿原理來實現半導體的製程，而其中電漿浸潤式離子佈植 (簡稱:PIII) 就是半導體製程的換膚手術。我們利用產生的電漿與腔體內的製程氣體發生碰撞讓氣體離子化，而離子化的氣體會被吸引到晶片上進行表面改質。
目前引進極光電漿
可淡化斑點、活化肌膚細胞增加它的通透性，使得肌膚更容易吸收保養品、細胞間係的打開能比太空水光延續更久的時間。
使用此療程過程中為非侵入式，完全無痛、有稍許溫熱感。
